商标状态	已注册
申请日期	2024-06-13
初审公告日期	2024-09-13
初审公告期号	119309319
注册公告期号	1111951555
注册满三年	-12140-1-214472-042122222-40--1-2412
注册日期	22202411242011-2-41102411-4014-
截止日期	324103-330414101-313-2441-21333
商标类型	普通商标
颜色组合	<无>
是否共有商标	否
国际注册日期	<无>
后指定日期	<无>
优先权日期	<无>

申请人名称	东技方公晶司(源份微有电电子份东科微微份技京北(北晶公北限公股京)方东子晶股股份有微科限份份公方科司公司
(英) 申请人名称
申请人地址	北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼
(英) 申请人地址
代理机构	深圳市智财家法务咨询有限公司

商品/服务	制造用半导体曝光设备,半导体晶片加工机,电子工业设备,电子元件制造设备,半导体芯片制造设备,半导体制造机,半导体晶片处理设备,半导体制造设备,集成电路制造机械(电子工业设备),半导体制造用光刻机
群组	0744 (未注册群组：0701,0702,0703,0704,0705,0706,0707,0708,0709,0710,0711,0712,0713,0714,0715,0716,0717,0718,0719,0720,0721,0722,0723,0724,0725,0726,0727,0728,0729,0730,0731,0732,0733,0734,0735,0736,0737,0738,0739,0740,0741,0742,0743,0745,0746,0747,0748,0749,0750,0751,0752,0753,0754)