APPLIED MATERIA...

第7类

商标号:913333333100339515333013339

商标动态

  • 2024-10-24变更商标代理人核准通知打印发送结束
  • 2024-10-23商标续展核准通知打印发送结束
  • 2024-10-09商标续展申请收文结束
  • 2024-09-12变更商标代理人申请收文结束
  • 2016-06-25变更商标申请人/注册人名义/地址核准证明打印发送结束
  • 2015-09-23变更商标申请人/注册人名义/地址申请收文结束
  • 2015-05-15商标注册申请注册证发文结束
  • 2013-10-15商标注册申请打印受理通知结束
  • 2013-09-29商标注册申请申请收文结束
商标状态 已注册
申请日期 2013-09-29
初审公告日期 2014-12-06
初审公告期号 3144343444
注册公告期号 414144144444661
注册满三年 2231801-8---00308-3---80-7
注册日期 7217007--10103520-00-33500-0207
截止日期 2000303335502-05300330--200306
商标类型 普通商标
颜色组合 <无>
是否共有商标
国际注册日期 <无>
后指定日期 <无>
优先权日期 <无>
申请人名称
(英) 申请人名称 APPLIED MATERIALS,INC.
申请人地址 美国加州圣大克劳拉市波尔斯大道3050号
(英) 申请人地址 3050 BOWERS AVENUE,SANTA CLARA,CA 95054,U.S.A.
代理机构 上海专利商标事务所有限公司
商品/服务 网印刷设备,印刷机器,雕刻机,生产太阳能光伏电池设备和装置(即,光伏太阳能发电机,太阳能光伏电池,逆变器,直流电缆,太阳能光照监控和追踪系统)用机器(电池制造机械),旋转式脱水机(非加热),玻璃加工机,化学工业用电动机械,蒸汽冷凝器(机器部件),(2)制造电线、电缆用机械,(1)抛光机器和设备(电动的),(1)机械台架,太阳能晶片切割设备,柔性电子产品生产用机器(电子工业设备),电子工业生产用电涌保护用超导体设备和系统(电子工业设备),化学蒸汽沉积反应器(电子工业设备),半导体晶片微沉积反应器(电子工业设备),半导体晶片外延反应器(电子工业设备),物理蒸汽沉积反应器(电子工业设备),导体晶片加工用机器,平板显示器生产用机器,等离子蚀刻机(电子工业设备),离子注入机(电子工业设备),半导体晶片快速热处理机器(电子工业设备),光学冷加工设备,气体分离设备,发电机组,(3)冷凝装置,(1)泵(机器、引擎或马达部件),分离器,(3)机器传动带,热喷枪(机器),清洗设备,真空喷镀机械
群组 0705,0716,0717,0724,0727,0729,0737,0742,0744,0745,0746,0748,0749,0750,0751,0752,0754 (未注册群组:0701,0702,0703,0704,0706,0707,0708,0709,0710,0711,0712,0713,0714,0715,0718,0719,0720,0721,0722,0723,0725,0726,0728,0730,0731,0732,0733,0734,0735,0736,0738,0739,0740,0741,0743,0747,0753)